Synopsys heeft aangekondigd dat zijn ontwerpprocestools en IP klaar zijn voor het 2NM -productieproces bij Samsung Wafer Foundations.Samsung heeft onlangs aangekondigd dat het in 2025 in 2025 2NM -processen halfgeleider -chips zal produceren en verklaarde dat het proces verder zal worden verbeterd in 2027. Synopsys 'EDA -ontwerptool heeft de 2 nm GAA -procescertificering van Samsung aangenomen.
Volgens de officiële introductie kan de EDA -kit van Synopsys de migratie van het simulatieontwerp, PPA (gebiedsefficiëntie, prestaties en energie -efficiëntie) en productiviteit van Samsung Wafer Foundry 2NM GAA -procesknooppunten verbeteren.Synopsys maakt gebruik van kunstmatige intelligentie (AI) voor collaboratieve optimalisatie om Samsung te helpen de gebiedsefficiëntie, prestaties en energie -efficiëntie van het 2nm -proces te verbeteren.
Synopsys 'DSO.AI en ASO.AI -tools zijn met succes gemigreerd van Finfet naar GAA -architectuur, wat betekent dat klanten hun bestaande Finfet -chipontwerpen soepel kunnen migreren naar het nieuwe 2NM GAA -proces.
CHIP -bedrijven kunnen Synopsys -tools gebruiken om nieuwe chipontwerptechnologieën te ontwikkelen, waaronder bedrading van de voeding van de achterkant, perceptiemethoden voor lokale lay -outeffect en het ontwerp van nanosheet -eenheid, waardoor de efficiëntie en prestaties van SF2 -processen worden verbeterd.Samsung verklaarde dat het SF2Z -procesknooppunt de prestaties, het stroomverbruik en de dichtheid verder kan verbeteren (met 20%).
Synopsys onthulde ook dat zijn UCIE IP is gebruikt bij de productie van chips op Samsung SF2- en SF4X -procesknooppunten.Bovendien zal dezelfde DTCO -oplossing ook worden gebruikt om Samsung's 1,4 nm procesknooppunt (SF1.4) te optimaliseren.
